光学玻璃坩埚-光学玻璃坩埚规格-润福鑫坩埚铸就卓越
坩埚喷涂是利用不同于其它喷涂技术和方法，坩埚喷涂是涂装坩埚通过加热使其液态混合物（氮化硅）迅速附着在坩埚表面。涂装坩埚的方法可分为加热喷涂与滚涂两种方法涂覆工艺，滚涂涂装其技术工艺简单，涂装涂层不均，时间长，氮化硅使用量大，成本高，所以公司现使用的是较先进工艺热喷涂技术。
就目前的石墨坩埚而言，光学玻璃坩埚，加热喷涂技术是将配制好的硅液涂料用净化的压缩空气进行喷涂，喷枪压力为20psi~40psi，喷涂距离为25~30厘米，定位着落坩埚宽度为15~20厘米，在喷涂过程中一般一次喷涂厚度控制在小于0.01mm内，否则在加热过程中易出现龟裂．起泡．针孔等，坩埚喷涂温度在40℃~65℃控制内．喷涂完成后再进行热处理，热处理的目的是提高涂层结晶度，避免内应力引起的涂层脱落，从而提高涂层的韧性和附着力。
因为坩埚的用途便是溶液的蒸发、浓缩或结晶，把固体物质灼烧，所以要注意一些事项，避免工作的疏忽和自身安全的保障。所以使用时应该注意的大约有三点
1.可直接受热，加热后不能骤冷，用坩埚钳取下。
2.坩埚受热时放在铁三角架上。
3.蒸发时要搅拌;将近蒸干时用余热蒸干。
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