坩埚的使用注意事项：
1、坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明坩埚是拉制大直径单晶硅，焦炭炉石墨坩埚，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。
2、石英质脆，易破，使用时要注意。
3、除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂主要由美国进口。国内产的石英砂纯度都达不到其要求。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等 对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。
4、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。
石墨坩埚扛氧化能力的提升办法有哪些？
对以金属硅粉为主要渗料，在密闭的匣钵内采用包埋法的工艺，焦炭炉石墨坩埚定制，保1健品电视专题片，能够制得构造公道拥有功效 梯度特点的合乎涂层，即sic过渡层-sic致密层-si-sio2多相涂层。以sic为主成份的外层，跟着高温保温时光的延伸，涂层厚度增添 ，sio2含量增多。
该涂层与基体的结合主要以化学结合为主，兼有机械结合，联合强度高。对涂层后的石墨坩埚进行扛氧化测试，测 试成果表白：包埋法制备的扛氧化涂层，在1100℃-1300℃存在较凸起的扛氧化机能，泰兴减速机。浸涂构成的单涂层重要以sic跟si3n4为主。
坩埚的除渣
1. 坩埚中残留的添加剂会穿透坩埚壁对坩埚进行腐蚀，从而缩短坩埚寿命。
2. 必须每天坚持用一个带平底的钢铲，小心地把坩埚内壁的残渣刮掉。
坩埚的清空
1. 热坩埚吊出炉后应放在耐高温板上，或者悬在转运工具上。不可直接放在砂子上，否则砂子会和坩埚的釉层一起反应，生成炉渣。
2. 坩埚停炉后，要把坩埚内金属液体倾倒干净，并进行除渣清洁。切莫让金属液体凝固在坩埚中，焦炭炉石墨坩埚批发，否则在下次加热使用时，金属膨胀会把坩埚撑破。
3. 如因某种原因生产中断，金属液体应倒入模具（zui好是小锭料模具）中形成锭料，方便下次使用。
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