现代拉单晶的坩埚一般是采用电弧法生产,半透明状,是拉制大直径单晶硅,发展大规模集成电路的基础材料。现代的石英坩埚则存在二种结构,外侧是一层具有高气泡密度的区域,称为气泡复合层,内侧则是一层3~5mm的透明层,称之为气泡空乏层。气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所提供的辐射热源。气泡空乏层的目的在于降低与溶液接触区域的气泡密度,而改善单晶生长的成功率及晶棒品质。
坩埚出现问题的处理方法:
1.在稀盐酸或稀硝1酸。
2.内煮沸(用稀盐酸比较方便,配成(1.5-2)mol/L的盐酸溶液)注意所用的酸盐中不得含有硝1酸,1盐,卤素等到氧化剂.
3.如用稀酸尚不能洗净时,石墨坩埚经销商,则用焦硫1酸钾,石墨坩埚供应商,碳酸钠或硼砂熔融清洗
4.如仍有污点,或表面发乌,则用通过100筛目的无尖锐棱角的细砂,用水润湿进行轻轻磨擦,石墨坩埚品牌,使表面恢复。
石墨坩埚热后不可立刻将其置於冷的金属桌面上,以避免它因遇冷而。也不可立即放在木质桌面上,以避免烫坏桌面或是引起火灾。正确的作法为留置在泥三角架上自然冷却,开封石墨坩埚,或是放在石绵心网上令其慢慢却。选择时首先看形状颜色,成色好坏会直接影响到坩埚的质量,然后影响坩埚的寿命。有的公司对客户不负责,以次充好,大家要敬请悉知。
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