目前,国内石英坩埚生产企业生产中使用的生产设备及工艺技术全部源于上世纪70年代初锦州155厂从日本引进的生产设备及工艺技术,该项技术设备自动化程度不高,整个生产过程中更多的依靠人工来实现,现在国内新上的坩埚生产设备都已经往自动化发展。坩埚的发展还是很快的。
石英坩埚可在1450度以下使用,分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅,发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今,世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。
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