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生产坩埚的特点
1. 热稳定性:针对石墨坩埚急热急冷的使用条件，坩埚规格，进行特别设计以保证产品质量的可靠性。
2. 耐侵蚀性:均匀细密的基体设计，延缓了坩埚的受侵蚀度。
3. 耐冲击性:石墨坩埚所能承受的热冲击强度极高，所以任何工艺处理都可以放心进行。
4. 耐酸性:特殊材料的加入显著改善坩埚的品质，在耐酸化指标方面表现，河北坩埚，并大大地延长石墨坩埚的使用寿命。
5. 高热传导性:高含量的固定碳保证了良好的热传导性，缩短溶解时间，并显着地降低了耗油量或其他能耗。
6. 金属污染的控制:材料成分的严格控制，保证了溶解时石墨坩埚对金属没有污染。
坩埚的使用注意事项：
1、坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明坩埚是拉制大直径单晶硅，坩埚参数，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。
2、石英质脆，易破，使用时要注意。
3、除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂主要由美国进口。国内产的石英砂纯度都达不到其要求。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等 对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。
4、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。
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